MCC法合成氨总反应是高度放热的，楚巴除其每千克反应物的总焓变高达-2964.52kJ。
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楚巴除(c)势阱类型与电导率行为之间的关联。卡周插图展示了晶粒尺寸的统计分布。图2LMO的微观形态和元素分布 (a)LMO的热腐蚀表面形貌，故事(b)和(c)LMO的元素分布图。
请注意，楚巴除较高温度下的数据已乘以一个因子，以便将它们全部显示在同一张图表上。因此，卡周研究Li离子在LiMn2O4（LMO）中的传输行为对于理解与锂的插入和提取有关的氧化还原机理非常重要。
故事插图分别在低频（左上角）和高频（右下角）中展示了s的温度相关性。
图5复阻抗谱在选定温度下的频率有关的Z(a)，楚巴除Z(b)，在选定温度下的复阻抗图(c)和(d)。IBM在新闻稿中称，卡周在运行速度方面，卡周首发的2nm芯片与当前许多笔记本电脑和手机中使用的主流与当前主流的7nm芯片相比，性能预计提升45%，能耗降低75%。
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金刚石MOSFET与结构示意图金刚石MOSFET是研究最广泛的金刚石晶体管，卡周其采用MOS栅控制结构可抑制栅极的泄漏电流。但硼室温下激活效率小于0.1%，故事而且硼在金刚石中的掺杂浓度和迁移率是此消彼长的关系，故事过大的掺杂浓度往往导致迁移率的迅速下降，电导率达到1Ω/cm需要硼掺杂浓度达到1019 cm-3时，但此时迁移率将降低到100cm2/Vs以下[4]。
